1. 可鍍制高級電器和通訊用觸點(diǎn)材料，在長扁絲表面上鍍金膜；在柔性襯底、玻璃襯底上鍍CdTe/CdS；在SiC絲上鍍鈦合金等材料
2. 矩形磁控靶兩套，繞線筒濺射成膜
3. 轉(zhuǎn)盤支架上加直流負(fù)偏壓
4. 射頻清洗系統(tǒng)，用于樣品反濺清洗
5. 繞線筒的選材和工作方式滿足金屬絲材（根據(jù)客戶要求調(diào)整）的使用，考慮其熱脹冷縮對絲材的影響
基本參數(shù)：
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爐體尺寸 |
Ф1100XH950 |
有效空間 |
Ф750XH500 |
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應(yīng)用技術(shù) |
IET+SmallARC |
靶材數(shù)量 |
10Pcsxφ100 |
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標(biāo)準(zhǔn)涂層 |
TiN, CrN, AlCrN, etc. |
其他復(fù)合涂層 |
TiAlCrN, TiSiN,TiAlCN,etc. |
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生產(chǎn)周期 |
5小時(shí)/爐 |
外圍尺寸 |
L4500XW2650XH2400mm |
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使用范圍 |
貼片電阻，貼片電容，復(fù)合金觸點(diǎn)，3C線路板，工件等 |
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